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接觸式光刻機的曝光方式大致可分為以下三種

更新時間:2022-02-15  |  點擊率:3302
  接觸式光刻機的核心原理就是一個透鏡組,在精度上首先咱們有個概念:我們現(xiàn)在芯片的線條精度已發(fā)展到10nm級別,而較大的原子直徑是將近1nm,我們把芯片放在電子顯微鏡下即可清晰地數(shù)出每個線條上有幾個原子,“調(diào)節(jié)屈光度”是典型的幾何光學(xué)(初等光學(xué))概念,遠遠實現(xiàn)不了這個精度。
 
  接觸式光刻機的曝光方式:
  主要有三種,分別是接觸式曝光、非接觸式曝光和投影式曝光。
  1、接觸式曝光:就是將掩膜與還沒加工基片的光膠層直接接觸并進行的曝光;
  2、非接觸式曝光:是指掩膜和基片的光膠層不直接接觸來實現(xiàn)圖形復(fù)印的曝光;
  3、投影式曝光:是指掩膜與基片不直接接觸,但用投影儀分方式來實現(xiàn)圖形轉(zhuǎn)移。
 
  接觸式光刻機的主要性能指標有:
  支持基片的尺寸范圍,分辨率、對準精度、曝光方式、光源波長、光強均勻性、生產(chǎn)效率等。
  分辨率是對光刻工藝加工可以達到的最細線條精度的一種描述方式。光刻的分辨率受受光源衍射的限制,所以與光源、光刻系統(tǒng)、光刻膠和工藝等各方面的限制。
  對準精度是在多層曝光時層間圖案的定位精度。
  曝光方式分為接觸接近式、投影式和直寫式。
  曝光光源波長分為紫外、深紫外和極紫外區(qū)域,光源有汞燈,準分子激光器等。
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